美、日、荷达成协议！誓要锁“死”14nm芯片？外媒：太晚了

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1月30日，外媒消息称，美国、荷兰和日本三国的国家安全事务官员27日在白宫结束高级别谈判，就限制向中国出口一些先进的芯片制造设备达成一致，将限制对华出口先进的芯片制造设备，其中就包括ASML Holding NV、Nikon Corp.和Tokyo Electron Ltd.等厂商的产品。

在外媒报道发布之后，当地时间周六，ASML对外回应称，据该公司了解，美日荷政府就半导体制造设备对华出口的新限制达成协议方面取得了进展。

ASML 表示：“据我们了解，政府之间已采取措施达成协议，该协议将专注于先进的芯片制造技术，包括但不限于先进的光刻工具。”

根据新限制达成协议，预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机（属于DUV光刻机）的出口，该设备对制造尖端芯片至关重要。

DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型，193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。此次可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。

目前浸没式光刻机可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此，一旦浸没式光刻机被加入限制，则意味着中国自45nm及以下成熟制程芯片的生产可能也将受到影响。

不过，从美国新规来看，主要限制的是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，因此可能会限制主要应用于先进制程的浸没式光刻机的部分型号的对华出口，部分主要应用于成熟制程的浸没式光刻机型号的许可申请可能会开放。

除了荷兰ASML和日本尼康这两大光刻机厂商会受影响之外，日本的尼康、东京电子等众多半导体设备厂商的相关设备的对华出口预计也将受到影响。据了解，ASML NXT2000及以上型号，尼康的NSR635及以上型号可能都将被列入限制出口范围。

值得注意的是，ASML CEO Peter Wennink（彼得·温宁克） 在25日接受采访时表示，美国主导的针对中国的半导体出口管制措施，最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术。

温宁克表示，中国的半导体公司“必须参与全球竞争”，所以他们才想购买非中国制造的设备，“如果无法得到这些机器，他们就会自己研发。这需要时间，但最终他们会实现目标”。温宁克表示，“中国的‘物理定律’和这里的一样，你越给他们施加压力，他们越有可能加倍努力”，以制造能够与ASML敌的光刻设备。

对此，英国媒体表示，美国现在对华实施这些措施已经太晚了，自2018年在美对华为断芯后，中国就开始了自主研发和制造，每年投入的研发费用达万亿。并已经取得了不错的成就，上海微电子自研28nm光刻机已获得突破，在多重技术的加持下，已实现14nm芯片的量产。28nm和14nm的常用芯片西方已经无法再卡中国脖子。英国媒体甚至认为，西方现在非但不应限制向中国出口先进芯片和制造设备，还应加大与中国合作。因为，再有5年中国芯片不管是产能还是技术必将获得重大突破。届时，西方半导体行业恐怕连汤都喝不到了。

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